該設備為我司研發用于石墨烯薄膜連續生長或者線性材料的連續的設備，此款設備是快速冷卻卷對卷CVD連續生長爐，它由高溫生長腔體，三路質量流量計氣路系統，真空機組，石英管，冷卻裝置，收放卷的密封裝置，自動化控制系統組成，兩端分別安裝有進料進氣真空腔室和出料排氣真空腔室（即收放銅箔或纖維絲的密封裝置），收放密封裝置內分別對應安裝有放卷滾輪和收卷滾輪，所輸出料排氣腔體與爐體之間安裝有冷卻裝置。相對于現有

低真空CVD石墨烯生長系統是由1200度開啟式管式爐、精密的質量流量控制系和真空系統所組成。廣泛應用在半導體、納米材料、碳纖維、石墨烯等新材料、新工藝領域。